훅업사업부
초순수배관
- 초순수배관 개요
- 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는
모든 종류의 오염물질에 대해 고순도처리된 물을
UPW(ULTRA PURE WATER)라 칭하며
숙련된 기술과 청결하고, 정밀한 제조환경을 바탕으로
반도체 및 디스플레이 FAB공정에 필요한 특수배관을
제작 및 설치하여 UPW를 공급, 순환하고 있습니다.
- 적용범위
- 반도체 제조의 표면세정, 주변장치 세정
- 적용공정
- ETCH, IMPLANT, DIFFUSION, CVD, METAL, METRO 등
진공배관
- 진공배관 개요
- 반도체 생산공정 진행에 필요한 Chamber 음압 형성을 위한
배관 연결 및 Toxic Gas, Chemical Gas의 Exhaust 배관을
구성하여 생산장비의 원활한 공정이 진행될 수 있도록
제작 및 설치를 하고있습니다.
- 적용범위
- PUMP, SCRUBBER, PFC, BY-PASS
- 적용공정
- ETCH, IMPLANT, DIFFUSION, CVD, METAL, METRO 장비 등
가스배관(BULK)
- 가스배관이란?
-
반도체 제조공정에서 웨이퍼를 제작할때 쓰이는 가스
(일반가스, 질소, 아르곤, 수소, 산소, LNG, 독성 및
폭발성가스 등)공급시 사용되는 특화된 소재의
배관(EP, BA, AP)을 말합니다.
- 가스배관의 목적
-
반도체 및 디스플레이 장비에 연결되는 각종
High Tech Utility를 Hook-UP하며, 반도체 및 디스플레이
제조장비의 입고 설치시 각종 에너지원을
공급하기 위한 설비를 시공하여 운영합니다.
- 가스배관의 효과
-
반도체 생산의 제조단위가 작은만큼(Nano)
생산에 영향을 끼치는 요소가 많습니다.
생산피해를 줄이기 위해 순수한 가스를 사용하여
생산수율에 영향을 주어 제조단가를 낮추는 동시에
불량률도 줄이는 효과를 볼 수있습니다.
- 적용공정
- ETCH, IMPLANT, DIFFUSION, CVD, METAL, METRO, CMP, PHOTO 등
